雙通AAO模板電化學沉積專用支架
雙通AAO模板（厚度為幾十微米）其孔道直徑一般為幾十到幾百納米，而孔道長度可達幾十微米，孔道之間相互平行，孔徑均勻性好。因此，以雙通AAO為模板，通過電化學沉積法，可以方便地制備高長徑比的、高密度的金屬納米線。
圖1. 以雙通AAO為模板通過電化學沉積法制備金屬納米線原理示意圖
圖1為采用雙通AAO模板通過電化學沉積制備金屬納米線陣列的原理示意圖。首先，要在雙通AAO模板的一面制備一層連續的導電金屬層，可以采用磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發等方法，導電金屬層可以是金、銀、銅、鋁、鎳等，導電金屬層厚度要厚一些（比如厚度為500~1000nm），一定要將AAO的孔完全堵死蓋住，形成連續的金屬層（這一點非常重要！如果厚度不夠，孔未被堵住，納米電沉積液就會穿過AAO到達支架底部的銅片上，電沉積時就會沉積大銅片上！）。然后，采用合適的電化學沉積溶液和沉積條件（如電流、電壓、時間），進行電化學沉積，由于模板孔的限制，從而形成金屬納米線。在沉積過程中，要求AAO的導電金屬層那一面的對面（這里稱為AAO的正面）浸入電化學沉積液中，孔內充滿溶液，而導電金屬層的那一面（金屬層的反面）必須完全不接觸電化學沉積液。為了達到這一要求，以及方便AAO模板的安裝和拆卸，我們開發了雙通AAO模板電化學沉積專用支架，如圖2所示。
圖2. （a,b）雙通AAO模板電化學沉積專用支架（亞克力），用于直徑25mm的雙通AAO模板。（c）安裝了雙通AAO模板的支架（亞克力）。AAO模板孔徑約為50nm，背面蒸鍍金屬為Au(40nm)/Al(500nm)。（d）采用直流電化學沉積法，沉積了金屬鎳的雙通AAO模板。有效區域直徑約為21mm。
電化學沉積專用支架主要采用亞克力和銅，導電性、機械強度、耐腐蝕性都很好，螺絲和密封圈拆卸方便。圖2（a,b）為支架照片，用于直徑25mm的雙通AAO，圖2c為安裝了AAO后的支架，安裝時，只要保證AAO模板與銅圓片同心即可。支架手柄部分的截面為方形，截面尺寸約為5*5mm。圖2d為沉積了鎳之后的雙通AAO模板。支架設計緊湊，密封性好，25mm的AAO有效沉積區域（與電沉積溶液接觸的區域）直徑達到大約21mm，13mm的AAO有效沉積區域（與電沉積溶液接觸的區域）直徑達到大約10mm。由于納米尺寸效應，鎳納米線區域呈現黑色。將模板掰斷后進行SEM測試，其結果如圖3所示，鎳納米線清晰可見。在AAO斷裂的時候，斷口處的納米線有的被帶出或拉斷，形貌清晰可見。目前，我們供應的亞克力材質的電化學沉積專用支架有兩種，分別用于直徑25mm和直徑13mm的雙通AAO模板的電化學沉積實驗。
注意：由于亞克力材質溶于有機溶劑（包括乙醇），因此，請不要用任何有機溶劑清洗該裝置，清洗時采用去離子水清洗即可。
圖4. PEEK材質的電化學沉積支架（適用于13mm和25mm雙通AAO）（注：由于銅片表面在空氣中會逐步被氧化成黑色，請收到產品之后使用細砂紙將表面黑色氧化層打磨掉即可正常使用。）
由于電化學沉積的電解液所用溶劑有時為有機溶劑，而亞克力支架可能會被有機溶劑腐蝕，針對這一問題，我們設計了PEEK材質的支架，如圖4所示。手柄部分內部為銅絲桿，外部為石英管，石英管外直徑為6mm。密封圈為氟膠圈，耐腐蝕。無論哪一種支架，由于密封圈的作用，都可以保證完好的密封，電化學沉積時，電沉積液不會接觸到內部導電金屬。需要注意的是，在做電化學沉積之前，一定要在AAO的背面蒸鍍一層厚厚的導電金屬層，厚度一定要保證把AAO的孔全部堵住（這一點非常重要！如果厚度不夠，孔未被堵住，納米電沉積液就會穿過AAO到達支架底部的銅片上，電沉積時就會沉積大銅片上！），而形成一層連續的導電金屬膜，比如，一般蒸鍍厚度約為1000nm。
注：PMMA支架目前已暫停供應。
注：此支架一般用于常壓電化學沉積體系，抽真空可能會出問題。贈送的雙通AAO模板在包裝和內的放置方向是反面向上，就是朝向帶有公司logo的盒蓋的那一面是AAO的反面。
支架裝配說明書：
PEEK支架：
http://topmembranes.com/intro/User Manual of AAO holder-PEEK.pdf