雙通AAO模板問題集錦
1、問：做SEM測試前，樣品需不需要做噴金處理？
答：無論是超薄AAO模板（轉移后，無PMMA）、單通AAO模板和雙通AAO模板，當AAO的厚度大于2微米時，做SEM之前都需要進行噴金或噴碳處理，因為較厚的AAO導電性差，如果不進行前處理，SEM測試時圖像質量會很差甚至一點都看不清楚。當AAO的厚度小于2微米時（主要對超薄AAO和單通AAO而言），AAO可以將電子導走，因此不需要噴金或噴碳照樣可以很清晰地測SEM，當然，前提是AAO是貼在導電基底上的（如導電膠、金屬樣品臺等）。噴金厚度大約2~4nm即可。
2、問：AAO模板的膜厚精度是多少？
答：由于AAO模板本身的厚度起伏以及SEM測試的誤差，實際膜厚會跟型號中標注的膜厚有一些差別，并不是精確一致的，這一點請知悉。一般情況下，孔間距65nm，100nm，125nm的超薄AAO膜厚的誤差為±50nm，孔間距為450nm的超薄AAO膜厚誤差約為±150~300nm。膜越厚，誤差越大。
3、問：AAO模板的孔徑誤差是多少？
答：我們目前的AAO模板為兩步氧化法制備，因此AAO孔排列為自組織結構，孔排列短程有序，有序區域與為微米級，有序區域稱為“籌”，籌內孔排列為六角密排有序，籌和籌之間的孔排列方向有一定的角度差別，籌和籌之間為籌界，籌界區域為缺陷區域，該區域內孔形狀偏離圓形，孔排列比較混亂，孔徑不均。這種AAO模板孔直徑并不是單一值，孔徑數值有一定的分布，單通AAO、對稱型雙通AAO、超薄AAO，三者孔徑的分散程度依次增加。單通AAO孔徑比較均勻，孔徑誤差在所標值的±10%以內（不排除局部區域的大孔或小孔現象），一般孔徑誤差在±5%以內。雙通AAO模板孔徑分散比單通稍微寬一些，一般情況下實際孔徑會比標注的孔徑略微大一些。超薄AAO由于其制備過程復雜，膜厚較薄，孔徑分散度比較大。孔間距65nm、100nm、125nm的超薄AAO孔徑一般在所標值的正負8nm以內，型號中帶有C的超薄膜孔徑在所標值的正負12nm以內（不排除局部區域的大孔或小孔現象）。孔間距450nm的超薄AAO孔徑分散范圍一般為50~60nm。
4、問：在硅片上制備硅多孔金薄膜進而使用液相法制備硅納米棒陣列，如何選用AAO模板？
答：根據參考文獻，使用液相法刻蝕硅片得到硅納米棒陣列需要先在硅表面制備金屬（金或/和銀）納米多孔網格，因此可以通過AAO表面鍍金屬進而轉移到硅片表面。選擇AAO的原則是AAO表面要平整，有兩個選擇，一個是使用單通AAO模板，但是需要采用離子研磨（ion-milling）的方法（或其它方法）將單通AAO的正面整平，然后蒸鍍金屬，第二個選擇是選擇雙通AAO模板，使用雙通AAO的反面（在包裝盒內，雙通AAO的方面是朝上放置的），因為雙通AAO的反面比其正面要平整很多。
5、問：AAO模板是親水的嗎？
答： AAO模板有一些親水但不是超親水，干燥的AAO模板親水性不好，需要將AAO模板表面先用水浸濕后就更親水了，水或水溶液是可以進入到AAO模板孔內部的，這一點可以放心。當然您也可以對AAO模板做后期疏水處理。
6、問：我們的產品是α-AAO還是γ-AAO？
答：主要是非晶態和γ-氧化鋁，不是α-氧化鋁。γ-氧化鋁的主要含量未知，并未進行過實際測量。
7、問：雙通AAO厚膜如果放在平整的基底上，AAO與基底之間是緊密接觸嗎？
答：不一定是全面積緊密接觸。一個原因是AAO厚膜厚度比較厚，有一定的韌性和硬度，并不會自然吸附在基底表面，因此放置后AAO膜很可能與基底之間有一定的縫隙。另一個原因是雙通AAO厚膜本身不是絕對的平片，它會有一定的彎曲度（雖然彎曲度不大）。所以，如果直接將雙通AAO膜貼在導電基底上，只是四周用膠粘住，采用直流電化學沉積并不一定能獲得納米線。
8、問：我們的雙通AAO模板與多孔陶瓷的區別是什么？
答：我們是雙通AAO屬于納米模板，孔直徑在1000nm以下，而多孔陶瓷為孔徑毫米級的燒結蜂窩狀陶瓷，二者完全不同。多孔陶瓷一般用于汽車尾氣處理等。
9、問：雙通AAO模板的型號中有的帶S字母，它代表什么意義？如何選擇？
答：這是針對孔中心間距為450nm的雙通膜來說的，孔中心間距450nm的雙通AAO，型號中帶有字母S的相對于不帶字母S的，其孔的均勻性、排列規整性都有比較大的提高，不帶字母S的孔間距450nm的雙通，孔比較不均勻，孔直徑和孔形狀都比較不好。型號帶S的價格要稍微高一些，因此，在實驗初期進行工藝摸索時建議選擇不帶S的，等工藝成熟后再選用帶字母S的。
10、問：雙通AAO模板能用刀切割或者用剪刀剪嗎？
答：由于雙通AAO模板厚度有幾十微米，比較硬脆，因此不可以使用機械的方法剪切，包括剪刀、刀片等，就像你不可以用剪刀去剪一片玻璃片一樣。雙通AAO模板需要用激光切割機或激光打標機進行切割。
11、問：有些雙通AAO正反面孔徑相差比較大，比如，DP065-015-50000，它的孔道結構是什么樣的？
答：雙通膜是通過單通膜制備出來的，單通膜孔道底部有個類似于試管底部的阻擋層，可以把AAO的每一個孔想象成一根試管，阻擋層就是試管的底。在制備時用酸將阻擋層慢慢腐蝕掉，原理很簡單。如下圖所示：
當阻擋層開口以后，酸就會進入膜的孔道里，此時孔道內壁會同時被腐蝕而使孔道擴大。正反面的孔是一一對應的，正反孔密度相同。絕大部分型號的雙通AAO的阻擋層都完全去除了，因此，正反面孔徑都相差不大，只有少數型號，如DP065-015-50000，正面孔徑約為30nm，反面孔徑約為15nm，反面孔很小其實是因為反面的阻擋層開口很小，只有15nm左右，而整個孔道的直徑都是約30nm，15nm孔徑部分在孔軸線方面的厚度僅僅為幾十納米，也就是一個阻擋層的厚度。正面30nm反面10,15,20的是因為它們腐蝕時間相差很短，孔道直徑還沒有明顯差別。當孔間距為100或者125nm時，阻擋被腐蝕開之前，孔道直徑約為50~60nm。當開口很小時，比如30nm~50nm，正面變化也不會很大，但是要比孔間距65nm的變化要大，比如，反面孔徑30nm時，正面50nm，而反面孔徑50nm時（此時阻擋層被完全去除），正面孔徑可能達到60~70nm。當阻擋層完全被去除以后，孔道仍然存在上下直徑不一的現象，這主要與多孔氧化鋁孔內壁抗腐蝕性的不均勻有關，這篇文獻給出了詳細的研究ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 3441−3448，感興趣的話可以了解一下。
12、問：對稱型雙通AAO外觀是什么顏色的？
答：孔中心間距65nm、450nm的雙通外觀是無色或乳白色，孔中心間距100nm、125nm的雙通外觀為淡黃色。雙通AAO模板為多孔結構，中部空氣與管道內壁折射率的差異使得光線通過時發生偏轉，從而直線透過率降低，孔中心間距越小的、孔直徑越小的雙通AAO模板其光透過率越高。幾個典型的雙通AAO模板的外觀可以參見我們公司產品也關于對稱型雙通AAO的介紹部分。請注意，雙通AAO模板直線透過率是不高的，只有當AAO與物體距離很近的時候，才能表現出良好的表觀透明性，比如把AAO直接放在書本文字表面，是可以透過AAO看清文字的。
13、問：雙通AAO除了直徑13mm和直徑25mm的圓片之外還有其它形狀和尺寸的嗎？
答：現貨里目前只有這兩種尺寸，其它的形狀和尺寸可以定制，但是需要滿足一定的起訂量，訂做周期一般為3~4周。另外，現貨庫存里除了上述兩種圓片為標準產品規格之外，我們還有大量的相同孔結構的不規則形狀產品，它們是切割25mm圓片后余下的部分，有效面積大約是9*9mm這么大，如果實驗的初期階段對膜形狀和大小沒有要求，就可以選擇使用，這樣比較節省，這種不規則形狀的膜單位面積價格相對于直徑13mm的打7折，購買的多的話還可以再優惠。
14、問：雙通AAO模板用于直流電化學沉積，具體操作步驟是什么？
答：雙通AAO模板做直流電化學沉積，首先需要在模板的一面蒸鍍一層導電金屬材料，如銀、金、銅等，蒸鍍的厚度要厚一些（如500nm），讓蒸鍍的金屬完全堵住AAO的孔。然后將AAO模板鍍金屬的那一面貼到導電基底（如ITO玻璃）上。用指甲油涂在AAO模板的周圍邊緣，固化后AAO的四周會被指甲油完全密封。這樣就可以做直流電化學沉積了。電化學沉積后，指甲油可以用丙酮溶解除去。將沉積后的雙通AAO模板折斷形成新鮮斷面，斷面向上貼于SEM垂直樣品臺的側面，噴金處理后就可以觀測所制備的金屬納米線了。
15、問：關于雙通用于電化學沉積的問題。
答：雙通AAO模板是比較適合采用電化學沉積法制備納米線或納米棒結構的模板。第一，將雙通AAO模板的一面通過電子束蒸發、熱蒸鍍、磁控濺射等方法蒸鍍一層導電金屬薄膜，這層導電金屬膜厚度一定要厚，讓這一面的所有孔都被堵住，形成一層連續的無孔的導金屬薄膜，因此蒸鍍的金屬一定要很厚（比如500nm，孔越大所需金屬越厚，根據實際測試結果來定）。第二，將蒸鍍了金屬膜的這一面貼于ITO、金屬板、低阻硅片等導電基底之上，用指甲油把雙通AAO的四周邊緣全部密封起來，目的是只允許電化學沉積溶液進入AAO孔道后與蒸鍍的金屬層接觸。第三，將電化學沉積裝置準備好，調節好設備，可以磁力攪拌，進行電化學沉積。沉積出的納米線長度與電話學沉積工藝有關，不同的系統和條件相差較大，以實驗為準。
如果在上面沒有找到您需要咨詢的問題，可以點擊下方鏈接查看更多雙通AAO相關信息：